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| ZEISS ULTRA 场发射扫描电子显微镜 |
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| 产品类型： ZEISS ULTRA |
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| 特殊说明： |
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| ULTRA55 |
ULTRA60 |
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ZEISS ULTRA 系统场发射扫描电镜—基于SUPRA场发射扫描电镜，是目前最顶级的纳米结构分析用电子束工具，能够高效率和超高分辨率成像。新开发的能量选择背散射(EsB)和角度选择背散射(AsB)探测器展现了著名的GEMINI技术的最新进展。ULTRA系列集成了GEMINI In-Lens 二次电子探测器、EsB探测器和AsB探测器，其中In-Lens 二次电子探测器用于高分辨率表面形貌成像、EsB探测器用于高清晰成分对比成像、AsB探测器用于晶体结构取向分析。同步时时成像和混合成像提供最顶级的影像分析能力。EsB探测器含有过滤器，这个过滤器使得高分辨背散射电子成像成为可能，展现出过去根本看不见的图像细节。
l 低电压下的超高分辨率二次电子和背散射电子成像
l 高效率EsB/AsB探测器用于纳米尺度的成分对比
l 超大型高精度全自动样品台
l BSE和SE同步时时观察或者混合成像
l 对于非导电样品的充电效应抑制
l 超高稳定性束流用于X-射线分析和电子背散射衍射应用
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ULTRA 系列基本规格 |
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分辨率
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1.0nm @ 15kV
1.7nm @ 1kV
4nm @ 0.1kV |
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加速电压 |
0.1—30kV, 10V步进连续可调 |
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放大倍数 |
12—900000倍 |
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电子束束流 |
4pA—20nA |
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灯丝 |
热场发射 |
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标准探测器 |
In-Lens二次电子探测器、In-Column能量选择背散射电子探测器(EsB)、角度选择背散射电子探测器(AsB)、E-T二次电子探测器 |
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影像处理 |
7种积分和平均模式 |
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系统控制 |
基于Windows XP 的SmartSEM |
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